This book has been written to provide newly arrived engineers in a silicon foundry environment with a comprehensive background in the fundamental physical and chemical basis for major front-end silicon treatments, such as oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion, as well as giving a survey of the major types of equipment used in integrated circuit (IC) chip foundries.
Techniques include various forms of chemical vapor deposition (CVD), epitaxy, thin film technologies, lithography, masking, and other nanotechnologies.
As well as the target audience, the book will also be of great interest to engineers and advanced students in all these and related fields of electrical engineering, materials science, and manufacturing.
Betala smidigt med kort, Klarna, Apple Pay eller Google Pay. Är du inte nöjd har du alltid 14 dagars ångerrätt. Läs mer i våra villkor. Har du några frågor, mejla oss på hello@memmo.org.
Memmo gör det enklare att plugga – var du än är i världen. Hos oss samlar du kursböcker och smarta studieverktyg på ett och samma ställe: sammanfattningar, quiz, poddar och flashcards. Och så Ted, din studiekompis som svarar på allt du undrar. Över 50 000 studenter pluggar redan här – byggt för att du ska lära dig snabbare och stressa mindre.