Contents:
Readership: Condensed matter physicists.
- Crystalline Ion Implantation Simulation (R Webb)
- The Latest News in Ion Implantation Equipment (M Setvak)
- Ion Beam Technology for Production VLSI/ULSI Semiconductor Doping (N R White)
- Simulation of Crater Effects During SIMS Depth Profiling (S Tzanev et al)
- High Tc Superconductors and Particle Beams (M Subotowicz)
- Formation of a Nitride Layer Between an Epitaxial Silicide Layer and the Silicon Substrate (J Danilovich et al)
- Formation of Stoichiometric Silicon Nitride Films during Ion Implantation (P A Aleksandrov)
- Structure and Phase Transformation During Highly Intensitive Ion Implantation of Silicon (F F Komarov et al)
- Ion Beam Modification of Polyimide Films (E F Ostretsov et al)
- Heterogeneous Amorphization of Cd-Implanted GaAs at Room Temperature (J Krynicki et al)
- Ion Assisted Processes at the Surfaces of Solids, Condensation and Modification of Thin Solid Film Properties (V G Babaev et al)
- Recoil Implantation of In, Ag, Cu into Stainless Steel (M Sowa et al)
- and other papers
Readership: Condensed matter physicists.
Płać wygodnie kartą, Klarną, Apple Pay lub Google Pay. Nie jesteś zadowolony? Zawsze masz 14-dniową gwarancję zwrotu pieniędzy. Więcej przeczytasz w naszych warunkach. Masz pytania? Napisz do nas na hello@memmo.org.
Memmo ułatwia naukę – gdziekolwiek jesteś na świecie. U nas znajdziesz podręczniki i sprytne narzędzia do nauki w jednym miejscu: streszczenia, quizy, podcasty i fiszki. A do tego Ted, Twój kumpel do nauki, który odpowie na wszystko, co Cię nurtuje. Ponad 50 000 studentów już tu się uczy – stworzone, byś uczył się szybciej i mniej stresował.
Może Ci się spodobać
Kup książkę0