Contents:
Readership: Condensed matter physicists.
- Crystalline Ion Implantation Simulation (R Webb)
- The Latest News in Ion Implantation Equipment (M Setvak)
- Ion Beam Technology for Production VLSI/ULSI Semiconductor Doping (N R White)
- Simulation of Crater Effects During SIMS Depth Profiling (S Tzanev et al)
- High Tc Superconductors and Particle Beams (M Subotowicz)
- Formation of a Nitride Layer Between an Epitaxial Silicide Layer and the Silicon Substrate (J Danilovich et al)
- Formation of Stoichiometric Silicon Nitride Films during Ion Implantation (P A Aleksandrov)
- Structure and Phase Transformation During Highly Intensitive Ion Implantation of Silicon (F F Komarov et al)
- Ion Beam Modification of Polyimide Films (E F Ostretsov et al)
- Heterogeneous Amorphization of Cd-Implanted GaAs at Room Temperature (J Krynicki et al)
- Ion Assisted Processes at the Surfaces of Solids, Condensation and Modification of Thin Solid Film Properties (V G Babaev et al)
- Recoil Implantation of In, Ag, Cu into Stainless Steel (M Sowa et al)
- and other papers
Readership: Condensed matter physicists.
Maksa helposti kortilla, Klarnalla, Apple Paylla tai Google Paylla. Etkö ole tyytyväinen? Sinulla on aina 14 päivän palautusoikeus. Lue lisää ehdoistamme. Jos sinulla on kysyttävää, lähetä meille sähköpostia osoitteeseen hello@memmo.org.
Memmo tekee opiskelusta helpompaa – missä päin maailmaa ikinä oletkin. Meillä yhdistät kurssikirjat ja fiksut opiskelutyökalut yhteen paikkaan: tiivistelmät, visat, podcastit ja muistikortit. Ja sitten Ted, opiskelukaverisi, joka vastaa kaikkeen, mitä ikinä mietitkin. Yli 50 000 opiskelijaa opiskelee jo täällä – rakennettu auttamaan sinua oppimaan nopeammin ja stressaamaan vähemmän.
Saatat pitää myös näistä
Osta kirja0