This book covers one of the most important device architectures that have been widely researched to extend the transistor scaling: FinFET. Starting with theory, the book discusses the advantages and the integration challenges of this device architecture. It addresses in detail the topics such as high-density fin patterning, gate stack design, and s
Seiten: 438
Kategorie: Ingenjörsvetenskap
e-ISBN: 9781040221747
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